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CJ系列塔盘

 

膜喷无返混塔盘(MPⅡ)

   该技术是在低阻力膜喷射塔板的基础上开发的一项新产品,重点解决塔盘返混导致板效率下降的问题。适用于大液气比的工况以及易堵物系的分离工况。该技术在2009年获科技部国家创新基金支持项目。 

    受传统塔板结构的局限性,各类塔板都存在着不同程度的返混,返混结果导致塔板效率的下降。 对于MP塔板的结构,工艺条件适合的状态下,可实现塔板下无返混,从而大大提高塔板的效率。该塔板已获发明专利,专利号为200910067917.2 。

    气体从升气管进入塔盘,在喷嘴处与液相接触。液体被高速气体提拉上升向分离板撞击,经折流改变方向。沿水平方向形成对撞,对撞后液体落回塔板上导流槽内,导流槽将液体直接导入降液管,气体上升进入上一层塔板。经传质后的液体不再落回到原塔盘上,从而保证塔盘上与喷嘴接触的液体为原始浓度,使传质推动力始终保持在高值上。

    主要特点:    

    (1)无返混、无浓度梯度:以往各类形式的塔板,传质过程都存在着不同程度的返混,并且在塔板的流动方向上,形成了浓度梯度,无论是返混还是浓度梯度都降低了传质平衡推动力,影响了塔板效率。MP塔板采用了集液导出装置,做到了塔板上各点无返混、无浓度梯度,使得传质过程均保持在高推动力下进行。

    (2)高传质效率:MP塔板是以喷射态作为传质形式的塔板,在喷射形式上因为采用特殊喷射方式,可进一步提高液相的分散程度,液滴更多,液相表面积更大,传递速率更高;无返混、无浓度梯度使得传质过程均保持在高推动力下进行,也大大提高了传质效率。故塔板层数减少,降低投资。

    (3)阻力降低:塔板的特殊结构使得气相与液相接触无需穿越塔板液层,而是形成对液体膜的喷射,这样塔板阻力大为降低;并利用喷咀雾化的原理,通过对喷咀处的液层高度控制来实现塔板的低阻力,阻力降可控制在20mmH2O以下。

    (4)抗堵性强:塔板在结构设计上基本没有可堵塞的部件,在喷咀处气速较高不易形成堵塞,对有颗粒沉液的物系,抗堵持续时间长,为易堵物系的传质分离开辟了新途径。

    (5)适用范围广:对于阻力降较低的减压蒸馏和低压吸收也有很好的适应性,对于带有较高热效应的(塔盘上需要布有冷却小装置)吸收操作,冷却装置易于排布,且冷却面积可加大。

 

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